화학적 특성의 광학 분석

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TDLAS 및 QF 분석기 Raman 분광 시스템 배출 모니터링 솔루션 입자 측정 계기 디지털 분석기 솔루션 프로세스 가스 분석기 공기질 측정 계기 연기 감지기 가시거리 측정 계기 높이 초과 감지기

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단순 제품
손쉬운 선택, 설치 및 작동

기술적 우수성

단순성

FLEX란?

기본 제품
신뢰성, 내구성, 유지보수가 쉬움

기술적 우수성

단순성

FLEX란?

하이엔드 제품
우수한 기능성과 편리성

기술적 우수성

단순성

FLEX란?

전문 제품
까다로운 어플리케이션을 위한 설계

기술적 우수성

단순성

구성에 따라 다름

FLEX란?

FLEX 선택	기술적 우수성	단순성
F L E X Fundamental 선택 기본적인 측정 요구사항 충족	기술적 우수성	단순성
F L E X Lean 선택 핵심 프로세스를 손쉽게 처리	기술적 우수성	단순성
F L E X Extended 선택 혁신적인 기술로 프로세스 최적화	기술적 우수성	단순성
F L E X Xpert 선택 가장 까다로운 어플리케이션 요구사항 충족	기술적 우수성	단순성 구성에 따라 다름

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ENERSIC600 프로세스 가스 분석기

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신뢰할 수 있는 상거래용 가스 분석을 위한 가스 크로마토그래프 – 통합 에너지 관리

Measured variables Gas components, calorific value, density, Wobbe index, molar mass, compressibility

Measuring medium Natural gas, biogas, air, H2, O2, N2

Analysis time ≥45 seconds

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배출가스 모니터링 솔루션 GM32

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In-situ방식의 가스측정 솔루션, ATEX가능

Measured variables NO, NO2, NH3, SO2

Process temperature ≤ +550 °C

Ambient temperature range –20 °C ... +55 °C
Temperature change maximum ±10 °C/h

Hazardous area approvals IECEx: Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc
ATEX: II 3G Ex pzc op is [ia] IIC T3 Gc

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먼지 측정기 Combiprobe CP100

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먼지, 유량, 압력, 온도의 통합 측정

Measured variables Dust concentration (after gravimetric comparison measurement), gas velocity, gas pressure, gas temperature

Process temperature –20 °C ... +200 °C

Process pressure –70 hPa ... 10 hPa

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디지털 분석기 솔루션 Monitoring Box

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상태 및 애플리케이션 데이터의 분석 처리

Supported products FLOWSIC200, GM32, MCS100FT, MCS200HW, MCS300P, MERCEM300Z, VICOTEC320, VICOTEC450, VISIC100SF, VISIC50SF, DUSTHUNTER SB100, DUSTHUNTER SP100, FLOWSIC100, MARSIC300, VICOTEC410, GMS800 (DEFOR + OXOR)

Data output Monitoring Box frontend
Alerts in the dashboard
Notifications via email
Data export (CSV)
Data integration into foreign systems (API)

Hosting Off-premise: https://monitoringbox.endress.com
Industrial PC, other solutions on request

Contract type SaaS (Software as a Service)

product picture of the particle measuring device DUSTHUNTER SP30

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DUSTHUNTER SP30 particle measuring device

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Measure intelligently. Reduce costs.

Process temperature -40 °C ... +220 °C

Measuring range Scattered light intensity: 0 ... 7.5 mg/m3 / 0 ... 3,000 mg/m3
Measuring ranges freely selectable; nine measuring ranges pre-configured (0 ... 7.5/15/45/75/150/225/375/1,000/3,000 mg/m3)

Conformities TÜV type test
Suitability tested acc. DIN EN 15267-1 (2009), DIN-EN 15267-2 (2009), DIN EN 15859 (2010), DIN EN 14181 (2014)
Certified for use as Dust monitor and Leak monitor for filter control downstream of dust collectors at installations requiring approval (13th BlmSchV, 17th BlmSchV, 27th BlmSchV, 30th BlmSchV, 44th BlmSchV and TA Luft)

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배출가스 모니터링 솔루션 MARSIC300

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안전하고 정밀한 솔루션

Measured variables CO2, SO2, NO, NO2, CO, NH3, H2O, CH4

Ambient temperature range 0 °C ... +50 °C
Type approved up to 45 °C

Conformities MARPOL Annex VI and NTC 2008 – MEPC.177(58)
Guidelines for exhaust gas cleaning systems – MEPC.340(77)
Guidelines for SCR reduction systems – MEPC.198(62)
DNV Rules for Type Approvals (2012)
IACS E10 and Rules of major classification societies

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배출가스 모니터링 솔루션 MCS200HW

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연도 가스 모니터링을 위한 검증된 측정 기술

Measured variables CH4, CO, CO2, Corg, HCl, H2O, NH3, NO, NO2, N2O, O2, SO2

Ambient temperature range +5 °C ... +50 °C

Process temperature ≤ +550 °C

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프로세스 가스 분석기 MCS300P

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최대 6개 측정 성분의 동시 프로세스 모니터링

Measuring range More than 60 measuring components available (depending on concentration and sample gas composition)
Up to 6 components simultanously
2 measuring ranges per component
Automatic measuring range switching (adjaustable)
2 limit values per component
Measuring ranges depend on application and combination of measuring components

product photo of the digital analyzer solution MEAC300

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MEAC300 digital analyzer solution

Clear and cost-efficient emissions data management

Calculations 5s value, Average value, Daily average value, Monthly average value, Annual average value, Moving monthly average, Mass emissions, Daily mass emissions, Monthly mass emissions, Annual mass emissions, Daily counter, Monthly counter, Annual counter

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프로세스 가스 분석기 TRANSIC100LP

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신뢰할 수 있는 산소 측정 솔루션

Measured variables O2

Measuring range O2: 0 ... 5 Vol.-% / 0 ... 100 Vol.-%

Ambient temperature range –20 °C ... +60 °C

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화학적 특성의 광학 분석

화학 프로세스의 모니터링, 측정 및 제어는 프로세스 개발시간 단축, 프로세스 효율성 향상, 프로세스 안전성 극대화, 제품 품질 보장을 위해 매우 중요합니다. 엔드레스하우저의 광학 분석 시스템은 고객이 핵심 산업프로세스를 최적화하고 제품 품질을 더욱 빠르고 신뢰할 수 있는 방식으로 모니터링할 수 있도록 지원합니다. 엔드레스하우저의 포트폴리오에 적용된 핵심 기술로는 Kaiser Raman 분광 측정 기술, TDLAS(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy), QF(Quench Fluorescence) 등이 있습니다.

장점

프로세스 투명성 보장: 엔드레스하우저의 최첨단 분석 기술은 프로세스의 투명성을 보장해 추측에 의존하지 않고 데이터를 기반으로 더욱 정확한 결정을 내릴 수 있습니다.
실시간 측정: 엔드레스하우저의 계기는 프로세스 변수의 365일 24시간 온라인 및 인라인 측정을 통해 실시간 데이터를 제공하여 가동 중단을 최소화하고 운영 비용을 줄이고 안전 위험을 사전에 예방할 수 있습니다.
품질 및 신뢰성: 반복 가능하고 정확한 측정을 통해 품질 파라미터를 엄격하게 관리하고 수율을 높일 수 있습니다. 엔드레스하우저의 최첨단 IIoT 지원 분석기는 신속한 데이터 액세스를 통해 PAC/PAT를 지원합니다. - IIoT 호환
확장성: 엔드레스하우저의 Raman 시스템은 공통된 기술을 공유해 R&D 실험실에서 제조 환경으로 손쉽게 측정 방법을 전송할 수 있기 때문에 프로세스 환경으로 빠르고 완벽하게 시스템을 확장할 수 있습니다.
높은 플랜트 가용성: 설치와 작동이 간편한 엔드레스하우저의 IIoT 지원 시스템은 데이터를 통해 자동화 수준을 높이고 사이클 시간을 단축하고 중단 없는 배치/연속 프로세스를 구현하도록 돕습니다 - IIoT 호환

자주 묻는 질문

광학 분석이란 무엇인가?

광학 분석은 빛이 물질과 상호작용하여 화학 성분을 식별하고 정량화하는 방법을 연구합니다. 여기에는 전자기 복사, 특히 스펙트럼의 자외선, 가시광선 및 적외선 영역에서 물질에 의해 흡수, 방출, 산란 또는 투과되는 전자기 복사의 거동을 조사하는 것이 포함됩니다. 이러한 유형의 광학 분석은 분광학, 이미징, 현미경과 같이 빛의 특성과 물질과의 상호작용을 이해함으로써 분자 구조, 구성, 역학에 대한 중요한 정보를 밝혀내는 분야에서 기본이 됩니다. 광학 분석의 원리를 완전히 이해하려면 전자기 복사의 특성과 물질과 상호작용하는 방식을 이해하는 것이 중요합니다.

전자파란 무엇인가요?

전자기 스펙트럼은 전자기 방사선의 모든 주파수 또는 파장의 전체 범위를 나타냅니다. 전자파는 파장에 따라 전파, 마이크로파, 적외선, 가시광선, 자외선, X-선, 감마선으로 분류됩니다. 전자기 방사선은 에너지, 파장 또는 주파수로 표현할 수 있습니다. 전자기 방사선의 거동은 파장에 따라 달라집니다. 전자기 방사선은 파동과 입자 특성을 모두 가지고 있습니다. 정지 상태의 전하가 전기장을 생성하고 움직이는 전하가 전기장과 자기장을 모두 생성합니다. 가속된 전하가 전자기 복사를 방출합니다.

전자기 방사선은 물질과 어떻게 상호작용하나요?

전자기 복사와 물질의 상호작용에는 방사선의 흡수, 방출 또는 산란이 포함될 수 있습니다. 전자기 복사와 물질 간의 상호작용의 크기는 분자 쌍극자 모멘트의 크기에 따라 달라집니다. 빛 스펙트럼의 여러 영역은 다양한 분자 또는 원자 특성을 이해하는 데 사용됩니다.

분광학이란 무엇인가요?

분광학은 방사선의 흡수, 방출 또는 산란과 관련된 물질과 전자기 방사선의 상호 작용을 연구하는 학문입니다. 분광학은 원자 또는 분자의 구성과 구조를 이해하는 데 필수적인 도구입니다.

화학 분석을 위한 분광학 기술 및/또는 측정 방법에는 어떤 것이 있나요?

엔드레스하우저는 2012년부터 인라인 또는 실험실 광학 분석, 가스 모니터링 및 실험실 자동화를 위한 기술에 투자해 왔으며, 스펙트라센서(SpectraSensors), 카이저 옵티컬 시스템(Kaiser Optical Systems), 애널리틱 예나(Analytik Jena), 블루오션 노바(Blue Ocean Nova AG)를 인수하고 SICK AG와 전략적 파트너십을 맺었습니다. 이렇게 확장된 분석 포트폴리오 내에서 다양한 분광학 도구를 제공합니다. 광학 분석 기법인 분광법은 특이성, 사용 편의성, 제품 또는 공정에 대한 인사이트를 제공하는 능력으로 인해 원자 또는 분자 구성을 이해하는 데 사용됩니다. 화학 분석의 분광 기술은 빛을 이용해 물질의 구성, 구조 또는 농도를 조사합니다. 엔드레스하우저가 제공하는 분광 기술은 다음과 같습니다:

라만 분광법 - 산란된 레이저 빛을 분석하여 분자 진동을 감지하며, 화학 결합과 구조를 식별하는 데 유용합니다.
가변 다이오드 레이저 흡수 분광법(TDLAS) - 특정 파장에 맞춰 조정된 레이저 광을 사용하여 고감도로 가스 농도를 측정합니다.
소광 형광(QF) - 여기된 분자가 방출하는 빛을 측정하고, 소광 형광은 발광 강도의 변화와 붕괴를 추적하여 산소와 같은 분석 물질을 감지합니다.
UV-Vis-NIR 분광광도계 - 자외선, 가시광선 및 근적외선 파장에 걸쳐 반사율, 흡광도 및 투과율을 측정합니다.
적외선(IR) 분광법 - 적외선 빛의 흡수를 분석하여 작용기 및 분자 구조를 식별합니다.
원자 방출 및 흡수 분광법 - 원자가 방출하거나 흡수하는 빛을 측정하여 원소 구성을 파악합니다.

이러한 광학 분석 기술은 전자기 복사와 물질의 상호작용에 의존하므로 정성 및 정량 화학 분석 모두에 강력한 도구가 됩니다.

라만 분광법이란 무엇인가요?

라만 분광법은 화합물의 진동 모드를 분석하고 스펙트럼 분석을 통해 물질의 분자 지문을 식별하는 강력한 분자 분광학 기법입니다. 일반적으로 가시광선 또는 근적외선 레이저 광선을 전자기 복사 소스로 사용합니다. 이 방법은 빛이 분자 진동과 상호작용할 때 발생하는 라만 산란으로 알려진 광자의 비탄성 산란을 측정합니다. 흡수 기반 기술과 달리 라만 분광법은 빛의 산란을 기반으로 하며 정해진 경로 길이가 필요하지 않습니다. 빛이 상호작용하는 동안 전자 구름의 분극성 변화에 민감하기 때문에 대칭 결합 진동을 측정하는 데 이상적입니다. 다른 분자 분광법과 마찬가지로 라만 분광법은 화학 성분과 분자 구조를 식별하는 데 사용됩니다. 그러나 높은 특이성과 수성 시료에서 측정할 수 있는 능력 등 중요한 이점을 제공합니다. 라만 분광법의 프로세스 환경에서 유리한 측면은 최소한의 규모별 데이터로 R&D부터 제조까지 정량적 분석 모델을 확장할 수 있다는 점입니다.

자외선-가시광선 분광법(UV/Vis)이란 무엇인가요?

UV/Vis는 물질의 자외선 및 가시광선 흡수를 측정하는 분석 기법입니다. 약 200~800nm의 파장 범위에서 작동하며 일반적으로 시료의 농도, 화학 구조 및 순도를 측정하는 데 사용됩니다. UV/Vis 분석은 빠르고 신뢰할 수 있는 결과를 얻기 위해 제약, 환경 테스트 및 화학 연구에 널리 적용됩니다.

근적외선(NIR)이란 무엇인가요?

근적외선(NIR)은 파장이 약 780nm에서 2500nm에 이르는 전자기 스펙트럼의 영역을 말합니다. 근적외선 분광법은 화학 성분을 식별하고, 재료 특성을 모니터링하고, 비파괴 테스트를 수행하기 위한 광학 분석에 널리 사용됩니다. 특히 탄화수소 가공, 제약, 농업, 식품 가공과 같은 산업에서 시료 준비 없이 빠르고 정확한 분석을 위해 유용하게 사용됩니다.

흡수 분광법이란 무엇인가요?

흡수 분광법은 시료의 원자 또는 분자가 특정 파장의 전자기 복사를 흡수하는 것을 측정합니다. 흡수는 물질이 특정 주파수를 선택적으로 제거하기 때문에 발생하며, 시료의 구성과 농도에 대한 귀중한 정보를 제공합니다.

튜너블 다이오드 레이저 흡수 분광법(TDLAS)이란 무엇인가요?

TDLAS는 진동 전이 중 분자의 쌍극자 모멘트 변화와 관련된 흡수를 분석하는 적외선 분광법의 한 형태입니다. 기체의 고유한 흡수선에 맞춰 조정된 적외선 또는 근적외선 레이저 광선을 사용하여 특정 분석 물질의 농도를 높은 정밀도로 측정합니다. 이 기술은 흡수되는 빛의 양을 흡수 물질의 특성과 연관시키는 비어-램버트 법칙의 적용을 받습니다. 비어-램버트 법칙을 적용하여 TDLAS는 특정 파장에서 흡수되는 빛의 양을 정량화하여 미량 가스를 정확하게 측정할 수 있습니다.

소멸형 형광(QF)이란 무엇인가?

QF(형광 소멸)은 분자의 형광이 산소에 의해 어떻게 감소되거나 “소멸”되는지를 측정하는 광학 기술이다. 형광이란 분자가 빛을 흡수한 직후 거의 즉시 발광하는 현상을 말한다. 이 방법은 일반적으로 자외선(UV) 또는 가시광선을 전자기파의 원천으로 사용한다. 이 기술은 형광 분자의 광자극 및 발광을 포함하며, 소멸 정도는 산소와 같은 특정 분석물의 존재 또는 농도에 대한 유용한 정보를 제공합니다.

신뢰할 수 있는 H₂S 측정: JT33 TDLAS 가스 분석기

정유&가스 산업에서 가스 품질, 프로세스 제어 및 자산 무결성 향상을 위한 신뢰할 수 있는 H₂S 측정

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